Gauss Labs y SK hynix publican los últimos resultados sobre tecnología de metrología de semiconductores basada en IA

SK hynix Inc. y Gauss Labs han anunciado hoy que han participado en la SPIE AL 2024, una conferencia internacional celebrada en San José, California, y han presentado dos artículos basados en la última tecnología para metrología basada en IA. SK hynix ha estado colaborando estrechamente con Gauss Labs en diversas áreas para aumentar el rendimiento y la productividad de los semiconductores, y los resultados de esta colaboración se publican en estas dos ponencias.

En el artículo "Model Aggregation for Virtual Metrology for High-Volume Manufacturing", Gauss Labs presenta el "AOM agregado", un algoritmo que aumenta la precisión de predicción de su solución de metrología virtual basada en IA, Panoptes VM (Virtual Metrology). Desde su adopción en diciembre de 2022, SK hynix utilizó Panoptes VM para realizar mediciones virtuales en más de 50 millones de obleas hasta el momento, lo que se traduce en más de una oblea por segundo. La empresa pudo mejorar la variabilidad del proceso en un 29% gracias a esta tecnología.

El último algoritmo de Gauss Labs, el AOM agregado, agrupa máquinas de procesamiento, cámaras, etc. que comparten el mismo patrón y las modela juntas. Según Gauss Labs, esto resuelve el problema de la escasez de datos y aumenta aún más la precisión de la predicción. En su segundo artículo, "Universal Denoiser to Improve Metrology Throughput", Gauss Labs presenta un "denoiser universal" que elimina las variaciones aleatorias (ruido) de las imágenes CD-SEM. Las mediciones a partir de imágenes CD-SEM se realizan a escala nanométrica, por lo que es extremadamente importante eliminar el ruido para realizar mediciones con precisión.

El denoiser universal de Gauss Labs utiliza IA para eliminar el ruido de varios tipos de imágenes a la vez. Mediante una serie de pruebas exhaustivas con SK hynix, Gauss Labs observó que el tiempo de adquisición de imágenes se reducía hasta ¼, en comparación con la tecnología convencional. Gauss Labs afirma que se espera que esta tecnología mejore la productividad de los equipos de metrología en un 42%.

Mike Kim, CEO de Gauss Labs, ha declarado que su empresa está trabajando en la investigación y el desarrollo de aplicaciones de IA industrial en fábricas de fabricación de semiconductores del mundo real. "Seguiremos lanzando soluciones innovadoras basadas en IA para revolucionar la fabricación".

Autores

1. Minsuk Shina, Minju Junga, Simon Zabrockia, Doh-Hyung Rob, Hyeon-Kyeong Jeongb, Dongkyun Yim a, "Model aggregation for virtual metrology in high-volume manufacturing", SPIE Advanced Lithography + Patterning (2024).

2. Yonghyun Kima, Seyun Kima, Hoon Byuna, Sang-Gil Parka, Tae Jong Leeb, Seong Il Leeb, Min Woo Kangb, Il Koo Kima, "Universal denoiser to improve metrology throughput," SPIE Advanced Lithography + Patterning (2024)