Intel completa la segunda instalación de una máquina EUV ASML High-NA
- Masterbitz
- 15 oct 2024
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Según TechNews Taiwan, Intel ha realizado importantes progresos en la implantación de la tecnología litográfica High-NA EUV de ASML. La compañía ha completado con éxito el montaje de su segundo sistema EUV High-NA «Twinscan EXE» en sus instalaciones de Portland, según ha confirmado Mark Phillips, Director de Hardware Litográfico de Intel. Christophe Fouquet, CEO de ASML, destacó que el nuevo proceso de ensamblaje permite la instalación directa en las instalaciones del cliente, eliminando la necesidad de desmontar y volver a montar, con el consiguiente ahorro de tiempo y recursos. Phillips se mostró entusiasmado con la tecnología y señaló que las mejoras que ofrecen las máquinas EUV de alta resolución han superado las expectativas en comparación con los sistemas EUV estándar. Dado el elevado precio de 380 millones de dólares de estos sistemas High-NA, cualquier ahorro es valioso en el proceso.

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