La tecnología EUV de alta apertura numérica (High NA) de ASML entra en fase de fabricación de gran volumen con Intel 18A.

ASML Reteniendo N.V. (ASML) informó hoy que Intel Foundry está utilizando la tecnología High NA EUV de ASML en el nodo de proceso Intel 18A para producir un subconjunto de sus procesadores Intel Core Ultra Series 3. Este hito marca un paso importante para demostrar la preparación de la EUV de alta NA en un entorno de producción. ASML e Intel han trabajado estrechamente durante décadas para avanzar en la tecnología de litografía y apoyar la escala continua de semiconductores. El proceso de litografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica (High NA EUV) es un paso importante en la litografía EUV, desarrollada por ASML para permitir un patrón más preciso para la fabricación avanzada de chips.

Los procesadores Intel Core Ultra Series 3, con nombre en código Panther Lake, están construidos en Intel 18A. El uso de High NA EUV para modelar capas específicas de estos productos proporciona a ASML e Intel Foundry datos útiles para refinar aún más la configuración del sistema, el tiempo de actividad y la implementación de fabricación. Esto allana el camino hacia una adopción más amplia, utilizando todas las capacidades de la tecnología.

"Con una mayor resolución y un mejor control de los procesos, la introducción de High NA EUV marca un desarrollo sustancial en la litografía de semiconductores", dijo Christophe Fouquet, presidente y CEO de ASML. "Estamos orgullosos de desempeñar un papel en la habilitación de los patrones más pequeños y densos que acelerarán los avances en la inteligencia artificial y otras tecnologías emergentes".

"Este hito refleja la estrecha colaboración técnica entre Intel y ASML y muestra cómo el Alto EUV de NA se puede integrar en la fabricación avanzada de semiconductores a escala", dijo Naga Chandrasekaran, Vicepresidente Ejecutivo y Gerente General de Intel Foundry. "Al calificar la opción de proceso High NA EUV en capas de productos Intel 18A seleccionadas, nuestra flota de herramientas existente está proporcionando a los clientes una mayor producción, mientras que desarrollamos opciones futuras para lograr un rendimiento de vanguardia, densidad y flexibilidad de fabricación en los próximos nodos".

En 2024, Intel y ASML completaron la integración del primer sistema comercial de litografía High NA EUV de la industria en el sitio de I+D de Hillsboro, Oregon, de la compañía. Intel Foundry también fue la primera compañía en instalar y pasar pruebas de aceptación de la segunda generación, TWINSCAN EXE:5200B, que se basa en el TWINSCAN EXE: 5000 y aumenta la precisión de salida y superposición, junto con una fuente de luz mejorada. Con este anuncio, Intel Foundry es el primero en la industria en enviar productos lógicos de alto volumen utilizando High NA EUV.

Fuente: ASML