Las máquinas ASML High-NA EUV Twinscan EXE cuestan 380 millones de dólares, ya se han reservado entre 10 y 20 unidades
- Masterbitz
- 14 feb 2024
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ASML ha revelado que sus vanguardistas herramientas de fabricación de chips en ultravioleta extremo (EUV) High-NA, denominadas High-NA Twinscan EXE, costarán unos 380 millones de dólares cada una, más del doble que sus actuales sistemas de litografía EUV Low-NA, que cuestan unos 183 millones de dólares. La empresa ha recibido entre 10 y 20 pedidos iniciales de empresas como Intel y SK Hynix y tiene previsto fabricar 20 sistemas High-NA al año de aquí a 2028 para satisfacer la demanda. La tecnología High-NA EUV representa un gran avance, ya que permite una resolución de impresión mejorada de 8 nm en comparación con los 13 nm de las actuales herramientas Low-NA EUV. Esto permite a los fabricantes de chips producir transistores casi 1,7 veces más pequeños, lo que supone triplicar la densidad de transistores en los chips. Alcanzar este nivel de precisión es fundamental para fabricar chips de menos de 3 nm, un objetivo de la industria para 2025-2026. También elimina la necesidad de las complejas técnicas de doble patrón que se requieren en la actualidad.

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