Rapidus instala la primera máquina litográfica ASML NXE:3800E EUV de Japón
Masterbitz
18 dic 20242 Min. de lectura
Rapidus Corporation, fabricante de semiconductores lógicos avanzados, ha anunciado hoy la entrega e instalación del equipo de litografía EUV de ASML en su fundición Innovative Integration for Manufacturing (IIM-1), una fábrica de desarrollo y fabricación de semiconductores avanzados actualmente en construcción en Chitose, Hokkaido. Para conmemorar la instalación, se celebró una ceremonia en el Portom Hall del Nuevo Aeropuerto de Chitose.
Se trata de un hito importante para la industria japonesa de semiconductores, ya que es la primera vez que se utiliza una herramienta de litografía EUV para la producción en serie en el país. Además de la maquinaria de litografía EUV, Rapidus instalará otros equipos complementarios de fabricación avanzada de semiconductores, así como sistemas totalmente automatizados de manipulación de materiales en su fundición IIM-1 para optimizar la fabricación de semiconductores de 2 nm de generación gate-all-around (GAA).
La litografía EUV es una de las tecnologías clave para fabricar semiconductores de 2 nm. Un proceso litográfico avanzado es fundamental para formar la estructura GAA de la generación de 2 nm.
La exposición por inmersión en ArF (193 nm) ha estado a la vanguardia de la tecnología EUV. Sin embargo, los nodos de 2 nm y futuros requieren una longitud de onda aún más corta (13,5 nm). La última generación de tecnología litográfica EUV utiliza fuentes láser, sistemas ópticos y fotomáscaras mucho más precisos que los utilizados anteriormente. El equipo de litografía EUV de ASML instalado en la fundición Rapidus IIM-1 utiliza un sistema óptico avanzado con una fotomáscara reflectante y lentes de espejo. Adopta una plataforma TWINSCAN que realiza la alineación y el escaneado en etapas separadas, consiguiendo una mayor productividad al tiempo que responde a la reducción del tamaño de los transistores.
En abril de 2025 se pondrá en marcha una línea piloto en la IIM-1 de Rapidus. Se introducirá un proceso de oblea única para todo el equipo de fabricación, donde Rapidus procederá a la construcción de un nuevo servicio de fundición de semiconductores denominado Servicio de Fabricación Rápida y Unificada (RUMS).
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