Rapidus recibirá en diciembre la primera máquina litográfica EUV de ASML en Japón

Se espera que la máquina de litografía EUV de ASML encargada por Rapidus llegue a Japón a mediados de diciembre, según información de Nikkei citada por TrendForce. Se trata del primer despliegue de la tecnología EUV en Japón, un paso importante para la industria de semiconductores del país, que busca establecerse como uno de los principales actores. Rapidus está construyendo una fábrica en Chitose, Hokkaido, y tiene previsto iniciar la producción en masa de chips de 2 nm en 2027. La empresa también tiene previsto adquirir varios dispositivos EUV si la producción de chips de 2 nanómetros tiene éxito, y pretende construir una segunda planta de producción específica para chips de 1,4 nm. Para respaldar estas operaciones, ASML establecerá un centro de servicios en la ciudad de Chitose.

El Consejero Delegado de NVIDIA, Jensen Huang, insinuó la posibilidad de subcontratar a Rapidus la producción de chips de IA. En octubre, el avance de la construcción de las instalaciones de Rapidus, que comenzó en septiembre de 2023, era del 63% y sigue por buen camino. Además de Rapidus, está previsto que la planta de Micron en Hiroshima instale equipos EUV en 2025, lo que permitirá la producción en masa en 2026. JASM, filial de TSMC en Japón, tiene previsto integrar la litografía EUV con una segunda planta de obleas en 2027 que contará con una línea de producción de 6 nm.

Fuentes: TrendForce, ITHome