Una startup china presenta el primer prototipo de fuente de luz EUV para desafiar el monopolio de ASML, pero la empresa holandesa no perderá el sueño por este avance.

En la 26a Feria Internacional de la Industria de China en Shanghai, Langdao Silex, una startup tecnológica china, reveló su prototipo de fuente de luz EUV desarrollado por sí mismo llamado “FlintNano LPP-OXXO”. Al ser un componente central de la litografía EUV, la compañía afirma que ha asegurado la mayoría de los componentes centrales a través de I + D independiente, con una tasa de localización de aproximadamente el 90%. Escuchar este desarrollo podría indicar que China está lista para dejarlo en ASML, pero esta es la razón por la que no llegaríamos a conclusiones.

La producción en masa no se espera para los próximos 3-5 años, y eso es probablemente un cronograma optimista; ASML actualmente tiene restricciones comerciales de Estados Unidos para preocuparse más

El prototipo de Langdao Silex emplea la tecnología de plasma producido por láser (LPP), que utiliza láseres de alta potencia para generar plasma y producir luz EUV. Este es el mismo enfoque técnico adoptado por ASML y otros. Las especificaciones técnicas reveladas por la compañía afirman que la salida del láser de conducción es de 1,000W, con una tasa de repetición de 1-20 kHz y una eficiencia de conversión superior al 2 por ciento.

La producción de EUV es de 15W o superior, con una capacidad de operación continua de más de 100 horas. El tamaño del plasma es de 60 μm, la estabilidad del plasma es del 3 por ciento de RMS y la estabilidad energética es de aproximadamente el 5 por ciento. Los representantes de la startup han mencionado que el sistema actual está funcionando a un nivel adecuado para las pruebas de exposición a obleas. Desafortunadamente, cuando se trata de la producción en masa, que será la prueba real, es otro juego de pelota y una razón por la que ASML tiene poco que sudar.

Langdao Silex proyecta que se requieren 3-5 años antes de que la producción comercial a gran escala sea viable, y eso es ser un poco demasiado optimista. Hemos informado en el pasado sobre cómo China ha estado trabajando en prototipos EUV, con la producción de pruebas que ocurren ya en el tercer trimestre de 2025, marcando el comienzo de posibles tecnologías innovadoras al tiempo que reduce la dependencia de empresas como ASML y las influenciadas por los Estados Unidos. Lamentablemente, el equipo DUV actual de China no puede competir con la firma holandesa, lo que significa que la línea de tiempo mencionada por Langdao Silex podría extenderse a 8-10 años, suponiendo que todo avance sin problemas.

Más allá del prototipo de fuente de luz EUV, completar el equipo de litografía EUV requiere superar una montaña de desafíos, que van desde ópticas de ultraprecisión, etapas de oblea y tecnologías de integración de sistemas complejos. La propia maquinaria EUV de ASML comprende cientos de miles de componentes procedentes de más de 800 empresas asociadas, por lo que, si bien una fuente de luz EUV es una señal de que China se dirige en la dirección correcta, no está ni cerca de reemplazar a ASML.

De hecho, el mayor problema de ASML ni siquiera es que China acelere sus esfuerzos de desarrollo hacia los equipos internos; es si Estados Unidos impondrá más restricciones a la región para la parafernalia DUV, lo que corta un flujo masivo de ingresos que representa el 20 por ciento de las ventas anuales de ASML. Limitar las opciones de China podría alimentarlo con el deseo de impulsar esos esfuerzos, pero el CEO de Zeiss cree que el país tardará 15 años en alcanzar ese objetivo.

Fuente: Wccftech