Una startup china presenta la primera fuente láser EUV de desarrollo propio

La startup china Langdao Silex ha demostrado el desarrollo de la primera fuente láser de litografía ultravioleta extrema (EUV) de cosecha propia, allanando gradualmente el camino para la completa independencia de la cadena de suministro de China. Según los informes, el sistema, llamado FlintNano LPP-OXXO, ofrece más de 15 W de producción de EUV y utiliza componentes que son de aproximadamente el 90% de origen o desarrollo nacional. Se basa en el plasma producido por láser (LPP), una técnica que utiliza láseres de alta potencia para generar plasma y producir la radiación EUV requerida para la fabricación avanzada de chips, similar al proceso utilizado por ASML. De acuerdo con las especificaciones publicadas por Langdao Silex, el sistema FlintNano emplea un láser de conducción de 1.000 W que funciona a tasas de repetición entre 1 y 20 kHz. Su eficiencia de conversión supera el 2%, y la compañía afirma que el equipo puede operar continuamente durante más de 100 horas. Según los informes, el prototipo es adecuado para las pruebas de exposición a obleas, aunque aún es necesario un mayor afinamiento.

• 

• 

• 

Los lectores podrían recordar que las herramientas de litografía EUV están prohibidas de ser vendidas en China, ya que el gobierno de los Estados Unidos previamente presionó al gobierno holandés para que detuviera las ventas de estas herramientas avanzadas. De hecho, ASML nunca ha enviado un solo escáner EUV a China, ya que el gobierno holandés, bajo la presión de los Estados Unidos, bloqueó las exportaciones en 2019. No se ha implementado un solo sistema, pero ASML continúa enviando sistemas DUV a clientes chinos. Más importante aún, el desarrollo de una fuente de luz es solo una parte de la construcción de un escáner EUV completo. Dichos sistemas también requieren una óptica reflectante extremadamente precisa, sofisticados mecanismos de posicionamiento de obleas e integración compleja en numerosos subsistemas.

Las empresas chinas son actualmente máquinas DUV de inmersión en masa. Por ejemplo, Tecnología de Yuliangsheng de Shanghai Está creando un láser excimer de fluoruro de argón (ArF) para producir luz DUV a una longitud de onda de 193 nm, pero EUV todavía está a años de distancia. Incluso una fuente de luz EUV nacional funcional no significa que China haya desarrollado equipos capaces de competir con los escáneres listos para la producción de ASML, que tienen miles de componentes personalizados de alta precisión que dependen de una mezcla compleja de fuentes de la cadena de suministro y trabajo de ingeniería. Para Langdao Silex, la compañía anticipa otros tres a cinco años de desarrollo antes de que la tecnología esté lista para la producción en masa.

Fuente: Langdao Silex